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J-GLOBAL ID:200902226820820940   整理番号:04A0746217

Si上のSiO2超薄膜の厚さ測定に関する現状の批判的総括 V CCQMの先導研究結果

Critical review of the current status of thickness measurements for ultrathin SiO2 on Si Part V: Results of a CCQM pilot study
著者 (9件):
SEAH M P
(National Physical Lab., Middlesex, GBR)
BENSEBAA F
(National Res. Council of Canada, ON, CAN)
VICKRIDGE I
(Univ. Paris 6 et 7, Paris, FRA)
DANZEBRINK H
(Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Braunschweig, DEU)
KRUMREY M
(Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Berlin-Charlottenburg, DEU)
GROSS T
(Bundesanstalt fuer Materialforsch. und -pruefung (BAM), Berlin, DEU)
WENDLER E
(Friedrich-Schiller-Univ. Jena, Jena, DEU)
RHEINLAENDER B
(Univ. Leipzig, Leipzig, DEU)
AZUMA Y
(AIST, Ibaraki, JPN)

資料名:
Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)

巻: 36  号:ページ: 1269-1303  発行年: 2004年09月 
JST資料番号: E0709A  ISSN: 0142-2421  CODEN: SIANDQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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