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著者 (5件)：
資料名：
巻： 38 号： 2 ページ： 120-127 発行年： 2004年02月
JST資料番号： H0030B ISSN： 0278-6826 CODEN： ASTYDQ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902227893322147
整理番号：04A0076877
TEOS/O2プラズマ中の粒子生成と捕獲挙動およびSiウェハの汚染に及ぼすそれらの効果
Particle Formation and Trapping Behavior in a TEOS/O2 Plasma and Their Effects on Contamination of a Si Wafer
SETYAWAN H
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
SHIMADA M
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
HAYASHI Y
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
OKUYAMA K
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
YOKOYAMA S
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名：
Aerosol Science and Technology
(Aerosol Science and Technology)
巻： 38 号： 2 ページ： 120-127 発行年： 2004年02月
JST資料番号： H0030B ISSN： 0278-6826 CODEN： ASTYDQ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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