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文献
J-GLOBAL ID:200902228124877906   整理番号:09A0085661

200°C硬化に対応した次世代パッケージ向け感光性耐熱材料

200°C Curable Heat-resistant Photodefinable Material for Next Generation Semiconductor Packages
著者 (6件):
峯岸知典
(日立化成工業)
野北里花
(日立化成工業)
岩下健一
(日立化成工業)
河村智子
(日立化成工業)
大江匡之
(日立化成デュポンマイクロシステムズ 技術開発セ)
松家則孝
(日立化成デュポンマイクロシステムズ 技術開発セ)

資料名:
日立化成テクニカルレポート  (Hitachi Chemical Technical Report)

号: 52  ページ: 13-16  発行年: 2009年01月 
JST資料番号: X0860A  ISSN: 0288-8793  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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