文献
J-GLOBAL ID:200902228124877906
整理番号:09A0085661
200°C硬化に対応した次世代パッケージ向け感光性耐熱材料
200°C Curable Heat-resistant Photodefinable Material for Next Generation Semiconductor Packages
著者 (6件):
峯岸知典
(日立化成工業)
,
野北里花
(日立化成工業)
,
岩下健一
(日立化成工業)
,
河村智子
(日立化成工業)
,
大江匡之
(日立化成デュポンマイクロシステムズ 技術開発セ)
,
松家則孝
(日立化成デュポンマイクロシステムズ 技術開発セ)
資料名:
日立化成テクニカルレポート
(Hitachi Chemical Technical Report)
号:
52
ページ:
13-16
発行年:
2009年01月
JST資料番号:
X0860A
ISSN:
0288-8793
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)