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資料名：
巻： 45 号： 6B ページ： 5528-5530 発行年： 2006年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902231435412495
整理番号：06A0557423
金属クラスタ錯体イオンを照射したスパッタSi表面の観測
Observation of Sputtered Si Surface Irradiated with Metal Cluster Complex Ions
TERANISHI Yoshikazu
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
KONDOU Kouji
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
FUJIWARA Yukio
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
NONAKA Hidehiko
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
TOMITA Misuhiro
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
YAMAMOTO Kazuhiro
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
FUJIMOTO Toshiyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
ICHIMURA Shingo
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45 号： 6B ページ： 5528-5530 発行年： 2006年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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