文献
J-GLOBAL ID:200902232506996163
整理番号:04A0501014
Coをドープしたβ-FeSi2の格子位置占有に対する電子チャネリングX線微小解析
Electron channeling X-ray microanalysis for site occupation in β-FeSi2 doped with Co
著者 (2件):
MORIMURA T
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
HASAKA M
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
資料名:
Materials Characterization
(Materials Characterization)
巻:
52
号:
1
ページ:
35-41
発行年:
2004年03月
JST資料番号:
D0448C
ISSN:
1044-5803
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)