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資料名：
巻： 46 号： 3 ページ： 245-248 発行年： 2003年03月20日
JST資料番号： G0194A ISSN： 0559-8516 CODEN： SHINA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902232796023732
整理番号：03A0329366
高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法におけるAr+及びCu+イオンのエネルギー分布
Energy Distribution of Ar+ Ions and Cu+ Ions by an rf-dc Coupled Magnetron Sputtering System
宮本嗣久
(広島工大 工)
,
大西学
(広島工大 工)
,
熊淵善太
(広島工大 工)
,
山県悠
(広島工大 工)
,
川畑敬志
(広島工大 工)
,
梶岡秀
(広島県西部工技セ)
資料名：
真空
(Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 46 号： 3 ページ： 245-248 発行年： 2003年03月20日
JST資料番号： G0194A ISSN： 0559-8516 CODEN： SHINA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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