文献
J-GLOBAL ID:200902233922082371
整理番号:09A0051164
極薄酸化Al層で改質した熱安定なAg薄膜
Thermally Stable Ag Thin Films Modified with Very Thin Al Oxide layers
著者 (4件):
KAWAMURA Midori
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
INAMI Yuuki
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
ABE Yoshio
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
47
号:
12
ページ:
8917-8920
発行年:
2008年12月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)