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著者 (4件)：
資料名：
巻： 96 号： 12 ページ： 7532-7536 発行年： 2004年12月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902235304520468
整理番号：05A0060741
水素化非晶質シリコンの熱アニール/酸化により作製したSiナノドットの形成制御
Control on the formation of Si nanodots fabricated by thermal annealing/oxidation of hydrogenated amorphous silicon
HAZRA S
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
SAKATA I
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
YAMANAKA M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
SUZUKI E
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 96 号： 12 ページ： 7532-7536 発行年： 2004年12月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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