文献
J-GLOBAL ID:200902235640458487
整理番号:06A0636061
高分解能パターン形成用の分子ガラスレジスト
Molecular Glass Resists for High-Resolution Patterning
著者 (6件):
DAI Junyan
(Cornell Univ., New York)
,
CHANG Seung Wook
(Cornell Univ., New York)
,
HAMAD Alyssandrea
(Cornell Univ., New York)
,
YANG Da
(Cornell Univ., New York)
,
FELIX Nelson
(Cornell Univ., New York)
,
OBER Christopher K.
(Cornell Univ., New York)
資料名:
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻:
18
号:
15
ページ:
3404-3411
発行年:
2006年07月25日
JST資料番号:
T0893A
ISSN:
0897-4756
CODEN:
CMATEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)