文献
J-GLOBAL ID:200902236116240128
整理番号:04A0229221
CW CO2レーザ処理後の石英ガラスのウェットエッチング
Wet etching study of silica glass after CW CO2 laser treatment
著者 (3件):
ZHAO J
(Univ. California, CA, USA)
,
SULLIVAN J
(Univ. California, CA, USA)
,
BENNETT T D
(Univ. California, CA, USA)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
225
号:
1/4
ページ:
250-255
発行年:
2004年03月30日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)