文献
J-GLOBAL ID:200902237070963061
整理番号:08A0891505
疎な化学パターン上の密な自己集合 ブロック共重合体を用いるリソグラフィーパターンの整流および多重化
Dense Self-Assembly on Sparse Chemical Patterns: Rectifying and Multiplying Lithographic Patterns Using Block Copolymers
著者 (5件):
CHENG Joy Y.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
RETTNER Charles T.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
SANDERS Daniel P.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
KIM Ho-Cheol
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
HINSBERG William D.
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
資料名:
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻:
20
号:
16
ページ:
3155-3158
発行年:
2008年08月18日
JST資料番号:
W0001A
ISSN:
0935-9648
CODEN:
ADVMEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)