文献
J-GLOBAL ID:200902237147470373
整理番号:06A0504083
スパッタリングにより蒸着されたシリカガラスにおける構造緩和
Structural relaxation in sputter-deposited silica glass
著者 (3件):
HIROSE Tomohiro
(Toyota Technological Inst., Res. Center for Advanced Photon Technol., Frontier Material Lab., 2-12-1, Hisakata ...)
,
SAITO Kazuya
(Toyota Technological Inst., Res. Center for Advanced Photon Technol., Frontier Material Lab., 2-12-1, Hisakata ...)
,
IKUSHIMA Akira J.
(Toyota Technological Inst., Res. Center for Advanced Photon Technol., Frontier Material Lab., 2-12-1, Hisakata ...)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
352
号:
21-22
ページ:
2198-2203
発行年:
2006年07月01日
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)