文献
J-GLOBAL ID:200902238469963339
整理番号:07A0777803
気体プラズマによるRu薄膜の酸化と還元
Oxidation and reduction of thin Ru films by gas plasma
著者 (6件):
IWASAKI Y.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
IZUMI A.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
TSURUMAKI H.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
NAMIKI A.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
OIZUMI H.
(Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), EUV Process Technol. Res. Lab, Wakamiya, Atsugi, Kanagawa ...)
,
NISHIYAMA I.
(Assoc. of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), EUV Process Technol. Res. Lab, Wakamiya, Atsugi, Kanagawa ...)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
253
号:
21
ページ:
8699-8704
発行年:
2007年08月31日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)