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文献
J-GLOBAL ID:200902239734448219   整理番号:04A0150960

マグネトロンスパッタリングによる炭化ほう素薄膜のプロセス-性質関係

Process-property relationship of boron carbide thin films by magnetron sputtering
著者 (5件):
WU M-L
(Seagate Res., PA, USA)
KIELY J D
(Seagate Res., PA, USA)
KLEMMER T
(Seagate Res., PA, USA)
HSIA Y-T
(Seagate Res., PA, USA)
HOWARD K
(Seagate Res., PA, USA)

資料名:
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

巻: 449  号: 1/2  ページ: 120-124  発行年: 2004年02月02日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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