文献
J-GLOBAL ID:200902240213870168
整理番号:09A1106321
高密度プラズマ集束装置におけるパルスイオンビームアブレーションによるDLC幕の作製
Fabrication of DLC films by pulsed ion beam ablation in a dense plasma focus device
著者 (5件):
WANG Z.p.
(Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
YOUSEFI H.r.
(Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
NISHINO Y.
(Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
ITO H.
(Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
MASUGATA K.
(Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
資料名:
Physics Letters. A
(Physics Letters. A)
巻:
373
号:
45
ページ:
4169-4173
発行年:
2009年11月02日
JST資料番号:
C0600B
ISSN:
0375-9601
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)