文献
J-GLOBAL ID:200902241223226816
整理番号:04A0796724
薄膜蒸着のための大面積大気圧よどみ流CVDにおける液体流と輸送プロセス
Fluid flow and transport processes in a large area atmospheric pressure stagnation flow CVD reactor for deposition of thin films
著者 (3件):
LUO G
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
,
VANKA S P
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
,
GLUMAC N
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
資料名:
International Journal of Heat and Mass Transfer
(International Journal of Heat and Mass Transfer)
巻:
47
号:
23
ページ:
4979-4994
発行年:
2004年11月
JST資料番号:
C0390A
ISSN:
0017-9310
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)