文献
J-GLOBAL ID:200902243154696603
整理番号:06A0164142
イオンビーム支援堆積法によりSiウエハ上に堆積したTiO2膜の結晶構造に対する酸素イオンビーム照射効果
Effects of oxygen ion beam application on crystalline structures of TiO2 films deposited on Si wafers by an ion beam assisted deposition
著者 (5件):
YOKOTA Katsuhiro
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
YANO Yoshikazu
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
NAKAMURA Kazuhiro
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
OHNISHI Masami
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
MIYASHITA Fumiyoshi
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
242
号:
1-2
ページ:
393-395
発行年:
2006年01月
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)