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著者 (5件)：
資料名：
巻： 55th 号： 2 ページ： 841 発行年： 2008年03月27日
JST資料番号： Y0054A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902243768005445
整理番号：08A0425753
中性粒子ビームALD法により作製したHfO2膜の構造解析と電気特性評価
生駒亨
(東北大 流体科研)
,
佐野慶佑
(東北大 流体科研)
,
小金澤智之
(高輝度科学研究セ)
,
広沢一郎
(高輝度科学研究セ)
,
寒川誠二
(東北大 流体科研)
資料名：
応用物理学関係連合講演会講演予稿集
(Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 55th 号： 2 ページ： 841 発行年： 2008年03月27日
JST資料番号： Y0054A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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