文献
J-GLOBAL ID:200902244755448352
整理番号:08A0557339
有機金属化学蒸着によって堆積させたHfO2薄膜の熱安定性
Thermal Stability of HfO2 Films Fabricated by Metal Organic Chemical Vapor Deposition
著者 (5件):
NAGASATO Yoshitaka
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
IWAZAKI Yoshitaka
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
HASUMI Masahiko
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
UENO Tomo
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
KUROIWA Koichi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
47
号:
1 Issue 1
ページ:
31-34
発行年:
2008年01月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)