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文献
J-GLOBAL ID:200902244755448352   整理番号:08A0557339

有機金属化学蒸着によって堆積させたHfO2薄膜の熱安定性

Thermal Stability of HfO2 Films Fabricated by Metal Organic Chemical Vapor Deposition
著者 (5件):
NAGASATO Yoshitaka
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
IWAZAKI Yoshitaka
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
HASUMI Masahiko
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
UENO Tomo
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
KUROIWA Koichi
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 47  号: 1 Issue 1  ページ: 31-34  発行年: 2008年01月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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