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文献
J-GLOBAL ID:200902246159628176   整理番号:03A0283282

金属-窒化物拡散障壁上での銅の置換めっきで始める無電解めっき

Electroless Plating of Copper on Metal-Nitride Diffusion Barriers Initiated by Displacement Plating.
著者 (5件):
WANG Z
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
IDA T
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
SAKAUE H
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
SHINGUBARA S
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
TAKAHAGI T
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)

資料名:
Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochemical and Solid-State Letters)

巻:号:ページ: C38-C41  発行年: 2003年03月 
JST資料番号: W1290A  ISSN: 1099-0062  CODEN: ESLEF6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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