文献
J-GLOBAL ID:200902246159628176
整理番号:03A0283282
金属-窒化物拡散障壁上での銅の置換めっきで始める無電解めっき
Electroless Plating of Copper on Metal-Nitride Diffusion Barriers Initiated by Displacement Plating.
著者 (5件):
WANG Z
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
IDA T
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
SAKAUE H
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
SHINGUBARA S
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
TAKAHAGI T
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名:
Electrochemical and Solid-State Letters
(Electrochemical and Solid-State Letters)
巻:
6
号:
3
ページ:
C38-C41
発行年:
2003年03月
JST資料番号:
W1290A
ISSN:
1099-0062
CODEN:
ESLEF6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)