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資料名：
巻： 59 号： 7-8 ページ： 153-207 発行年： 2005年11月
JST資料番号： E0422B ISSN： 0167-5729 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902246546168850
整理番号：05A1011859
SiGeヘテロ構造の作製技術とその特性
Fabrication technology of SiGe hetero-structures and their properties
SHIRAKI Yasuhiro
(Advanced Res. Laboratories, Musashi Inst. of Technol., 8-15-1 Todoroki Setagaya-ku, Tokyo, JPN)
,
SAKAI Akira
(Dep. of Crystalline Materials Sci., Graduate School of Engineering, Nagoya Univ., Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya, JPN)
資料名：
Surface Science Reports
(Surface Science Reports)
巻： 59 号： 7-8 ページ： 153-207 発行年： 2005年11月
JST資料番号： E0422B ISSN： 0167-5729 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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