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著者 (4件)：
資料名：
巻： 5280 号： Pt.2 ページ： 798-804 発行年： 2004年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902247452343344
整理番号：04A0470740
248nm深UVリソグラフィーを用いたSOIベースのフォトニック結晶導波路の最適設計と作製
Optimization Design and Fabrication of Photonic Crystal Waveguides Based on SOI Using 248nm Deep UV Lithography
XIE L
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
,
ZHANG Y
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
,
PENG X
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
,
XIE S
(Tsinghua Univ., Beijing, CHN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 5280 号： Pt.2 ページ： 798-804 発行年： 2004年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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