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文献
J-GLOBAL ID:200902247566605071   整理番号:04A0065301

窒化ケイ素粉末表面のSiHx吸収バンドの拡散反射フーリエ変換赤外線分光による解析

SiHx Absorbance Bands in Si3N4 Powder Surfaces Analyzed by Diffuse Reflectance Infrared Fourier Transform Spectroscopy
著者 (3件):
HIEN T T T
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
ISHIZAKI C
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
ISHIZAKI K
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)

資料名:
日本セラミックス協会学術論文誌  (Journal of the Ceramic Society of Japan)

巻: 112  号: 1301  ページ: 1-5  発行年: 2004年01月01日 
JST資料番号: F0382A  ISSN: 0914-5400  CODEN: JCSJEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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