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資料名：
巻： 112 号： 1301 ページ： 1-5 発行年： 2004年01月01日
JST資料番号： F0382A ISSN： 0914-5400 CODEN： JCSJEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902247566605071
整理番号：04A0065301
窒化ケイ素粉末表面のSiHx吸収バンドの拡散反射フーリエ変換赤外線分光による解析
SiHx Absorbance Bands in Si3N4 Powder Surfaces Analyzed by Diffuse Reflectance Infrared Fourier Transform Spectroscopy
HIEN T T T
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
,
ISHIZAKI C
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
,
ISHIZAKI K
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
資料名：
日本セラミックス協会学術論文誌
(Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 112 号： 1301 ページ： 1-5 発行年： 2004年01月01日
JST資料番号： F0382A ISSN： 0914-5400 CODEN： JCSJEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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