文献
J-GLOBAL ID:200902248327809753
整理番号:03A0508990
I-ライン感受性光酸発生剤及びそのポリシラン/ジエポキシフルオレンブレンドの光橋かけへの利用
I-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Use for Photocrosslinking of Polysilane/diepoxyfluorene Blend
著者 (7件):
OKAMURA H
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
SAKAI K
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIKI T
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
KAWASAKI S
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
YAMADA M
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
16
号:
1
ページ:
87-90
発行年:
2003年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)