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文献
J-GLOBAL ID:200902248327809753   整理番号:03A0508990

I-ライン感受性光酸発生剤及びそのポリシラン/ジエポキシフルオレンブレンドの光橋かけへの利用

I-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Use for Photocrosslinking of Polysilane/diepoxyfluorene Blend
著者 (7件):
OKAMURA H
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
SAKAI K
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
FUJIKI T
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
KAWASAKI S
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
YAMADA M
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)

資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻: 16  号:ページ: 87-90  発行年: 2003年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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