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文献
J-GLOBAL ID:200902248990697411   整理番号:09A1035361

水熱法によるエピタキシャルKNbO3厚膜の成長と特性評価

Growth of Epitaxial KNbO3 Thick Films by Hydrothermal Method and Their Characterization
著者 (9件):
ISHIKAWA Mutsuo
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
YAZAWA Keisuke
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
FUJISAWA Takashi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
YASUI Shintaro
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
YAMADA Tomoaki
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
HASEGAWA Tomohito
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
MORITA Takeshi
(Univ. Tokyo, Chiba, JPN)
KUROSAWA Minoru
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
FUNAKUBO Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 48  号: 9,Issue 2  ページ: 09KA14.1-09KA14.5  発行年: 2009年09月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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