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著者 (9件)：
資料名：
巻： 29 号： 2 ページ： 151-156 発行年： 2005年04月
JST資料番号： A0734B ISSN： 0141-6359 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902249498458572
整理番号：05A0344119
エピタクシー基板に使用する高度ボロンドープSiウエハの高精度化学的機械的研磨
High precision chemical mechanical polishing of highly-boron-doped Si wafer used for epitaxial substrate
WATANABE J.
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
YU G.
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
ERYU O.
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
KOSHIYAMA I.
(Fujimi Inc., Aichi, JPN)
,
IZUMI K.
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
NAKASHIMA K.
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
UMENO M.
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
JIMBO T.
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
KODAMA K.
(Fujimi Inc., Aichi, JPN)
資料名：
Precision Engineering
(Precision Engineering)
巻： 29 号： 2 ページ： 151-156 発行年： 2005年04月
JST資料番号： A0734B ISSN： 0141-6359 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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