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資料名：
巻： 46 号： 6B ページ： 3958-3964 発行年： 2007年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902252179564581
整理番号：07A0679732
超多層光学記録用のタングステン酸化物膜のエレクトロクロミズムの緩和機構のスパッタ条件依存性
Relaxation Mechanism of Electrochromism of Tungsten-Oxide Film for Ultra-Multilayer Optical Recording Depending on Sputtering Conditions
SATO Ryuji
(Japan Broadcasting Corp., Tokyo, JPN)
,
KAWAMURA Norikazu
(Japan Broadcasting Corp., Tokyo, JPN)
,
TOKUMARU Haruki
(Japan Broadcasting Corp., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46 号： 6B ページ： 3958-3964 発行年： 2007年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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