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J-GLOBAL ID：200902252647846891 整理番号：06A0853938

シリコンホトレジストを使用しないレプリカ成形法によるポリジメチルシロキサン中で迅速にマイクロチャンネル製作するための実際的な方法

A Practical Method for Rapid Microchannel Fabrication in Polydimethylsiloxane by Replica Molding without Using Silicon Photoresist

著者 (8件)：

BRIONES Maria Portia P.

(Nanotechnology Res. Inst., National Inst. of Advanced Sci. and Technol. (AIST))

,

HONDA Takeshi

(Nanotechnology Res. Inst., National Inst. of Advanced Sci. and Technol. (AIST))

,

YAMAGUCHI Yoshiko

(Nanotechnology Res. Inst., National Inst. of Advanced Sci. and Technol. (AIST))

,

MIYAZAKI Masaya

(Nanotechnology Res. Inst., National Inst. of Advanced Sci. and Technol. (AIST))

,

MIYAZAKI Masaya

(Dep. of Molecular and Material Sciences, Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ.)

,

NAKAMURA Hiroyuki

(Nanotechnology Res. Inst., National Inst. of Advanced Sci. and Technol. (AIST))

,

MAEDA Hideaki

(Nanotechnology Res. Inst., National Inst. of Advanced Sci. and Technol. (AIST))

,

MAEDA Hideaki

(Dep. of Molecular and Material Sciences, Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ.)

資料名：

Journal of Chemical Engineering of Japan (Journal of Chemical Engineering of Japan)

巻： 39 号： 10 ページ： 1108-1114 (J-STAGE) 発行年： 2006年
JST資料番号： S0629A ISSN： 0021-9592 CODEN： JCEJAQ 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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