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資料名：
巻： 82 号： 16 ページ： 2688-2690 発行年： 2003年04月21日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902253596218625
整理番号：03A0298821
rf/dcプラズマ-ガス-凝縮によるCoとSiの複合材料の堆積
Composite deposition of Co and Si clusters by rf/dc plasma-gas-codensation
KATOH R
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
HIHARA T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
PENG D L
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
SUMIYAMA K
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 82 号： 16 ページ： 2688-2690 発行年： 2003年04月21日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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