文献
J-GLOBAL ID:200902254837621325
整理番号:05A0413131
プラズマ前処理した磁気層上に堆積した極薄B-C-N保護膜のミクロトライボロジー特性
Microtribological properties of B-C-N extremely thin protective films deposited on plasma pretreated magnetic layers
著者 (4件):
MIYAKE Shojiro
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
,
WANG Mei
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
,
SAITOH Tadashi
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
,
WATANABE Shuichi
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
195
号:
2/3
ページ:
214-226
発行年:
2005年05月31日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)