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資料名：
巻： 96 号： 4 ページ： 2087-2090 発行年： 2004年08月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902257023453382
整理番号：04A0628689
極めて純度の高い水素化微結晶Si薄膜中への酸素不純物のドーピング
Oxygen impurity doping into ultrapure hydrogenated microcrystalline Si films
KAMEI T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
WADA T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 96 号： 4 ページ： 2087-2090 発行年： 2004年08月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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