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著者 (1件)：
資料名：
巻： 16 号： 2 ページ： 99-104 発行年： 2008年12月
JST資料番号： L4460A ISSN： 1340-3214 CODEN： POKAFE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902258396652349
整理番号：09A0285066
プラズマイオン注入におけるパルス電圧形状を考慮したイオン注入分布の算出
Calculation of Ion Concentration Profile at Pulse Voltage with Finite Rise and Fall Times in Plasma Ion Implantation
橋本好幸
(神戸市工高専)
資料名：
プラズマ応用科学
(Applied Plasma Science)
巻： 16 号： 2 ページ： 99-104 発行年： 2008年12月
JST資料番号： L4460A ISSN： 1340-3214 CODEN： POKAFE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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