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著者 (6件)：
資料名：
巻： 514 号： 1-2 ページ： 193-197 発行年： 2006年08月30日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902258693940000
整理番号：06A0548730
三ふっ化塩素ガスを使用した多結晶β-シリコンカーバイドのエッチング速度及び表面モルホロジー
Etch rate and surface morphology of polycrystalline β-silicon carbide using chlorine trifluoride gas
HABUKA Hitoshi
(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)
,
ODA Satoko
(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)
,
FUKAI Yasushi
(R and D Dep., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., 1-2-1 Marunouchi, Chiyoda, Tokyo 100-0005, JPN)
,
FUKAE Katsuya
(Shibukawa Lab., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., 1497 Shibukawa, Gunma 377-8513, JPN)
,
TAKEUCHI Takashi
(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)
,
AIHARA Masahiko
(Dep. of Chemical Engineering Sci., Yokohama National Univ., 79-5 Tokiwadai, Hodogaya, Yokohama, Kanagawa 240-8501, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 514 号： 1-2 ページ： 193-197 発行年： 2006年08月30日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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