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文献
J-GLOBAL ID:200902259491488528   整理番号:03A0701042

薄膜と基盤の間の界面応力と特異性の熱弾性解析

THERMOELASTIC ANALYSIS OF INTERFACIAL STRESS AND STRESS SINGULARITY BETWEEN A THIN FILM AND ITS SUBSTRATE
著者 (2件):
TAKAHASHI M
(Akita Univ., Akita, JPN)
SHIBUYA Y
(Akita Univ., Akita, JPN)

資料名:
Journal of Thermal Stresses  (Journal of Thermal Stresses)

巻: 26  号: 10  ページ: 963-976  発行年: 2003年10月 
JST資料番号: A0101B  ISSN: 0149-5739  CODEN: JTSTDA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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