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資料名：
巻： 86 号： 11 ページ： 112906.1-112906.3 発行年： 2005年03月14日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902260006561598
整理番号：05A0374635
HfO2薄膜における走査プローブ誘起スポットと固定正電荷との相関
Correlation between scanning-probe-induced spots and fixed positive charges in thin HfO2 films
MIYATA Noriyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
OTA Hiroyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
ICHIKAWA Masakazu
(AIST, Ibaraki, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 86 号： 11 ページ： 112906.1-112906.3 発行年： 2005年03月14日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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