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著者 (7件)：
資料名：
巻： 71st ページ： 23-26 発行年： 2007年07月12日
JST資料番号： F0108B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902261162313630
整理番号：07A0762978
原材料に起因したHf酸化膜中メタル不純物の分析とTDDB寿命への影響
Analysis of Metal Impurity in Hf Oxide Originated in Source Materials and Its Impact on TDDB Lifetime
井上真雄
(ルネサス テクノロジ)
,
土本淳一
(ルネサス テクノロジ)
,
野村幸司
(ルネサスセミコンダクタエンジニアリング)
,
水谷斉治
(ルネサス テクノロジ)
,
由上二郎
(ルネサス テクノロジ)
,
吉村秀文
(ルネサス テクノロジ)
,
児島雅之
(ルネサス テクノロジ)
資料名：
半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集
(Proceedings of the Symposium on Semiconductors and Integrated Circuits Technology)
巻： 71st ページ： 23-26 発行年： 2007年07月12日
JST資料番号： F0108B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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