文献
J-GLOBAL ID:200902261896289888
整理番号:09A1139197
炭素マスク層を使った選択的成長手法に基づくGaNの横方向極性制御
Lateral Polarity Control in GaN Based on Selective Growth Procedure Using Carbon Mask Layers
著者 (9件):
MATSUMURA Hisashi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KANEMATSU Yasuo
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SHIMURA Takayoshi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAMAKI Takayuki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
OZEKI Yasuyuki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ITOH Kazuyoshi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SUMIYA Masatomo
(National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)
,
NAKANO Takayuki
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
FUKE Shunro
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
2
号:
10
ページ:
101001.1-101001.3
発行年:
2009年10月25日
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)