文献
J-GLOBAL ID:200902263969365041
整理番号:06A0578416
193nm空間像を通した欠陥配置の先端的研究
An advanced study for defect disposition through 193nm aerial imaging
著者 (3件):
DUERR Arndt C.
(Advanced Mask Technol. Center (AMTC), Dresden, DEU)
,
ZIBOLD Axel M.
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
BOEHM Klaus
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6152
号:
Pt.2
ページ:
61522M.1-61522M.9
発行年:
2006年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)