文献
J-GLOBAL ID:200902267657571332
整理番号:05A0713936
大気圧下での触媒増強気相エピタクシーによるATカット面結晶石英膜の成長
Growth of crystalline quartz films with AT-cut plane by means of catalyst-enhanced vapor-phase epitaxy under atmospheric pressure
著者 (6件):
TAKAHASHI Naoyuki
(Dep. of Materials Sci. and Technol., Fac. of Engineering, Shizuoka Univ., 3-5-1 Johoku, Hamamatsus, Shizuoka 432-8561 ...)
,
NAKUMURA Takato
(Dep. of Materials Sci. and Technol., Fac. of Engineering, Shizuoka Univ., 3-5-1 Johoku, Hamamatsus, Shizuoka 432-8561 ...)
,
NONAKA Satoshi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
,
KUBO Yoshinori
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
,
SINRIKI Yoichi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
,
TAMANUKI Katsumi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
資料名:
Journal of Physics and Chemistry of Solids
(Journal of Physics and Chemistry of Solids)
巻:
66
号:
7
ページ:
1145-1149
発行年:
2005年07月
JST資料番号:
C0202A
ISSN:
0022-3697
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)