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文献
J-GLOBAL ID:200902267657571332   整理番号:05A0713936

大気圧下での触媒増強気相エピタクシーによるATカット面結晶石英膜の成長

Growth of crystalline quartz films with AT-cut plane by means of catalyst-enhanced vapor-phase epitaxy under atmospheric pressure
著者 (6件):
TAKAHASHI Naoyuki
(Dep. of Materials Sci. and Technol., Fac. of Engineering, Shizuoka Univ., 3-5-1 Johoku, Hamamatsus, Shizuoka 432-8561 ...)
NAKUMURA Takato
(Dep. of Materials Sci. and Technol., Fac. of Engineering, Shizuoka Univ., 3-5-1 Johoku, Hamamatsus, Shizuoka 432-8561 ...)
NONAKA Satoshi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
KUBO Yoshinori
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
SINRIKI Yoichi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
TAMANUKI Katsumi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)

資料名:
Journal of Physics and Chemistry of Solids  (Journal of Physics and Chemistry of Solids)

巻: 66  号:ページ: 1145-1149  発行年: 2005年07月 
JST資料番号: C0202A  ISSN: 0022-3697  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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