文献
J-GLOBAL ID:200902268119331867
整理番号:05A0318291
水素,ヘリウム及びけい素イオンの同時照射下のSiC/SiC複合材料の空洞形成
Cavity Formation in a SiC/SiC Composite under Simultaneous Irradiation of Hydrogen, Helium and Silicon Ions
著者 (5件):
MIWA Shuhei
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HASEGAWA Akira
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TAGUCHI Tomitsugu
(Japan Atomic Energy Res. Inst., Ibaraki, JPN)
,
IGAWA Naoki
(Japan Atomic Energy Res. Inst., Ibaraki, JPN)
,
ABE Katsunori
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Materials Transactions
(Materials Transactions)
巻:
46
号:
3
ページ:
536-542
発行年:
2005年03月20日
JST資料番号:
G0668A
ISSN:
1345-9678
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)