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著者 (7件)：
資料名：
巻： 42 号： 2B ページ： 769-771 発行年： 2003年02月28日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902269590930734
整理番号：03A0204811
無機フォトレジストを用いる高分解能青色レーザマスタリング
High-Resolution Blue-Laser Mastering Using an Inorganic Photoresist.
KOUCHIYAMA A
(Sony Corp., Tokyo, JPN)
,
ARATANI K
(Sony Corp., Tokyo, JPN)
,
TAKEMOTO Y
(Sony Corp., Tokyo, JPN)
,
NAKAO T
(Sony Corp., Tokyo, JPN)
,
KAI S
(Sony Corp., Tokyo, JPN)
,
OSATO K
(Sony Corp., Tokyo, JPN)
,
NAKAGAWA K
(Sony Corp., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42 号： 2B ページ： 769-771 発行年： 2003年02月28日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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