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著者 (5件)：
資料名：
巻： 6153 号： Pt.1 ページ： 615305.1-615305.11 発行年： 2006年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902271549494701
整理番号：06A0578491
トップコートの無い193nm液浸レジストの評価
Evaluation of 193nm immersion resist without topcoat
WEI Yayi
(Infineon Technol. North America Corp. at Albany, NY)
,
STEPANENKO N.
(Infineon Technol. SC300 GmbH & Co. OHG, Dresden)
,
LAESSIG A.
(Infineon Technol. SC300 GmbH & Co. OHG, Dresden)
,
VOELKEL L.
(Infineon Technol. SC300 GmbH & Co. OHG, Dresden)
,
SEBALD M.
(Infineon Technol. AG, Erlangen)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6153 号： Pt.1 ページ： 615305.1-615305.11 発行年： 2006年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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