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著者 (5件)：
資料名：
巻： 17 号： 4 ページ： 645-650 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902272651082465
整理番号：04A0512721
F2レジストからのガス放出中の酸成分: その場QCM法を用いる試験
Acid Components in Outgassing from F2 Resists: A Study Using In-Situ QCM Technique
SHIRAIA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TAKASHIBA S
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
HORIGUCHI Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
IRIE S
(Semiconductor Leading Edge Technologies, Ibaraki, JPN)
,
ITANI T
(Semiconductor Leading Edge Technologies, Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 17 号： 4 ページ： 645-650 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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