文献
J-GLOBAL ID:200902273176096479
整理番号:04A0796903
H2/Arガスを使用してマグネトロンスパッタリングにより成長させた高安定水素化ガリウムドープ酸化亜鉛薄膜
Highly stable hydrogenated gallium-doped zinc oxide thin films grown by DC magnetron sputtering using H2/Ar gas
著者 (2件):
TAKEDA S
(Asahi Glass Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
FUKAWA M
(Asahi Glass Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
468
号:
1/2
ページ:
234-239
発行年:
2004年12月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)