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文献
J-GLOBAL ID:200902273333485980   整理番号:08A1252979

並進過程の磁場反転配置プラズマに対するバックグラウンド中性粒子の効果

Effects of background neutral particles on a field-reversed configuration plasma in the translation process
著者 (4件):
MATSUZAWA Yoshiki
(Dep. of Physics, Coll. of Sci. and Technol., Nihon Univ., 1-8-14 Kanda-Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo 101-8308, JPN)
ASAI Tomohiko
(Dep. of Physics, Coll. of Sci. and Technol., Nihon Univ., 1-8-14 Kanda-Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo 101-8308, JPN)
TAKAHASHI Tsutomu
(Dep. of Physics, Coll. of Sci. and Technol., Nihon Univ., 1-8-14 Kanda-Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo 101-8308, JPN)
TAKAHASHI Toshiki
(Dep. of Electronic Engineering, Gunma Univ., 1-5-1 Tenjin-cho, Kiryu, Gunma 376-8515, JPN)

資料名:
Physics of Plasmas  (Physics of Plasmas)

巻: 15  号:ページ: 082504  発行年: 2008年08月 
JST資料番号: T0641B  ISSN: 1070-664X  CODEN: PHPAEN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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