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文献
J-GLOBAL ID:200902273734044421   整理番号:04A0003003

インジウム2-エチルヘキサノエートモノヒドロキシドを用いたディップコーティング法によって作製した酸化インジウム薄膜

Formation of indium oxide thin films fabricated by a dip-coating process using indium 2-ethylhexanoate monohydroxide
著者 (9件):
SHIGENO E
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
SEKI S
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
SHIMIZU K
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
SAWADA Y
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
OGAWA M
(Tokyo Inst. of Polytechnics, Kanagawa, JPN)
SHIDA A
(Yokohama City Center for Industrial Technol. and Design, Yokohama, JPN)
IDE M
(Yokohama City Center for Industrial Technol. and Design, Yokohama, JPN)
YAJIMA A
(Asahi Denka Kogyo Co. Ltd., Tokyo, JPN)
YOSHINAKA A
(Asahi Denka Kogyo Co. Ltd., Tokyo, JPN)

資料名:
Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)

巻: 169/170  ページ: 566-570  発行年: 2003年06月02日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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