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資料名：
巻： 47 号： 1 Issue 2 ページ： 620-624 発行年： 2008年01月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902274833657229
整理番号：08A0565300
CuとSiOCとの間の拡散障壁とその極めて薄いZrN膜の応用
Application of Extremely Thin ZrN Film as Diffusion Barrier between Cu and SiOC
SATO Masaru
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
TAKEYAMA Mayumi B.
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
AOYAGI Eiji
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
NOYA Atsushi
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 47 号： 1 Issue 2 ページ： 620-624 発行年： 2008年01月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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