文献
J-GLOBAL ID:200902276204326930
整理番号:08A0565307
電子ビーム誘起反応過程による強誘電薄膜のミクロパターニング
Micropatterning of Ferroelectric Thin Films by Electron-Beam-Induced Reaction Process
著者 (3件):
FUJII Tadashi
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
,
MATSUNAGA Hiroaki
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
,
ADACHI Masatoshi
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
47
号:
1 Issue 2
ページ:
647-648
発行年:
2008年01月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)