文献
J-GLOBAL ID:200902280297082013
整理番号:08A0478971
rfスパッタリングによるLaNiO3バッファ層上のBaTiO3膜のミクロ構造と強誘電性
Microstructure and ferroelectric properties of BaTiO3 films on LaNiO3 buffer layers by rf sputtering
著者 (2件):
QIAO Liang
(School of Materials Sci. and Engineering, Beijing Univ. of Aeronautics and Astronautics, Xueyuan Road, 37#, Hai Dian ...)
,
BI Xiaofang
(School of Materials Sci. and Engineering, Beijing Univ. of Aeronautics and Astronautics, Xueyuan Road, 37#, Hai Dian ...)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
310
号:
11
ページ:
2780-2784
発行年:
2008年05月15日
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)