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著者 (6件)：
資料名：
巻： 17 号： 4 ページ： 483-488 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902282060081880
整理番号：04A0512700
193nmリソグラフィー用のアクリル重合体のレジスト特性に及ぼす保護基の影響
Effects of Protecting Group on Resist Characteristics of Acryl Polymers for 193 nm Lithography
OGATA T
(TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Kanagawa, JPN)
,
MATSUMARU S
(TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Kanagawa, JPN)
,
SHIMIZU H
(TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Kanagawa, JPN)
,
KUBOTA N
(TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Kanagawa, JPN)
,
HADA H
(TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Kanagawa, JPN)
,
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 17 号： 4 ページ： 483-488 発行年： 2004年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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